佐思市场研究报告网
最新报告 网站地图 联系我们 登陆 首页
研究报告
定制研究
资料下载
竞争情报
行业情报
投资情报
我和佐思
佐思年鉴
English
报告购买流程
定购方法
① 注册订购:
点击在线订购进行报告订购
我们的服务人员将在24小时内与您联系。

② 电话订购:
拔打电话

北京:010-51266615
    010-82863480/1/2/5
24小时:13436696826
传真:010-82863486

上海:021-64871266
             021-64872612
24小时:13524982235
传真:021-64872324

签订协议
可从网上下载报告订购表或由我们传真报告订购表或订购协议。
传真:010-82863486

付款方式
① 通过银行转帐的形式支付报告购买款项
② 我们收到款项后,24小时内快递报告或者发送报告邮件

③ 款项到帐后快递发票

银行电汇:
北京:
开户行:
上海浦东发展银行北京知春路支行
帐号:91170154740001300
户名: 北京佐思信息咨询有限责任公司


研究报告导航
[TMT产业]
通信业 电子元器件 传媒业
计算机 软件行业 互联网
[医药产业]
化学原料药及化学制剂
中药业 生物制药业
医药综合及医疗器械行业
[化学工业]
化肥和农药 化学纤维 石化
化工综合 日用及有机化工
塑料业
[能源材料]
能源电力 煤炭 有色金属
钢铁 玻璃 新能源新材料
[公共服务]
金融银行 百货零售 旅游 文体娱乐 宏观经济 外贸
[交通运输]
汽车及相关行业 民航业
公路及铁路运输
港口与物流
[日用产品]
家电家居 纺织业
服装业 纸业
[工业设备]
输配电及控制设备
锅炉及原动机 金属制品
专用设备制造 通用设备
[食品其它]
食品饮料 制酒
农林牧渔业 其它
[房产建筑]
房地产 建筑业 水泥
您的位置:佐思研究报告和竞争情报网>>研究报告交易平台>>TMT产业>>计算机及相关设备

掩膜制造及检修市场分析及战略研究报告——Mask Making, Inspection, and Repair: Market Analysis and Strategic Issues
字体
纸介版价格:美元/篇 字数:万字
电子版价格:2495美元/篇 页数:
纸介版+电子版价格:美元 图表数:
完成日期:2008-07-02
关键字: 掩膜|Mask|
 联系方式: 北京:010-51266615 010-82863480/1/2/5 传真:010-82863486  上海:021-64871266 021-64872612 传真:021-64872324    [在线订购]  

摘要

This report addresses the strategic issues impacting the mask making, inspection, and repair sectors of the semiconductor industry in the U.S. and the world. The mask making and equipment markets are analyzed and projected.

报告研究了全球半导体行业掩膜制造,检测及维修市场,并具体分析了各个市场的战略发展。报告不仅分析了掩膜制造市场,还介绍了掩膜生产及检修设备市场。

目录及图表

Chapter 1   Introduction  1-1
    
1.1   The Need For This Report 1-1
    
Chapter 2   Executive Summary  2-1
    
2.1   Summary of Major Issues  2-1
2.2   Summary of Market Opportunities    2-3
    
Chapter 3   Technology Issues  3-1
    
3.1   Mask Making    3-1
3.1.1   Mask Blanks  3-1
3.1.2   Completed Masks   3-4
3.2   Mask Making Equipment    3-18
3.2.1   Electron Beam Systems  3-18
3.2.2   Laser Pattern Generators    3-24
3.3   Mask Inspection     3-30
3.3.1 Mask Defects 3-33
o Transmission Variations 3-33
o Transparent Defects 3-34
o Nuisance Defects 3-34
o CD Variations 3-34
o Reflectivity Variations 3-35
3.4   Mask Repair    3-36
3.4.1   Laser Repair 3-37
3.4.2   Focused Ion Beam Repair     3-38
    
Chapter 4   User - Vendor Strategies     4-1
    
4.1   Establishing User Needs  4-1
4.1.1   Mask Making - Merchant or Captive     4-1
4.1.2   Submicron Mask Making Equipment - Laser vs E-Beam 4-5
4.1.3   Mask Inspection Equipment   4-11
4.1.4   Mask Repair - Laser vs FIB  4-12
4.1.5 Phase-Shift Masks 4-17
4.1.6   Optical Proximity Correction 4-28
4.1.7 NGL Technology Challenges 4-30
4.1.7.1  X-Ray Masks 4-37
4.1.7.2  EPL Masks 4-45
4.1.7.3  EUVL Masks 4-46
4.2   Competitive Vendor Strategies 4-47
4.2.1  Photronics  4-47
4.2.2   DuPont Photomask    4-53
4.2.3   Vendor Opportunities   4-65
    
Chapter 5   Market Forecast   5-1
    
5.1   Driving Forces 5-1
5.1.1 Introduction 5-1
5.1.2 Trends in IC Processing Technology 5-5
5.1.3  Mask and Reticle Requirements    5-9
5.1.4   Fast Turnaround Devices     5-9
5.1.5   Impact of Direct Write E-Beam and X-Ray    5-17
5.2   Market Forecast Assumptions   5-18
5.3   Mask Making, Inspection, and Repair     5-19
5.3.1   Completed Mask Market  5-19
5.3.2   Reticle/Mask Manufacturing Equipment  5-37
    
  LIST OF FIGURES 
    
3.1   Light Transmittance of Glasses     3-2
3.2   Photomask Fabrication Flow    3-6
3.3   Optical Photomask Fabrication Flow 3-7
3.4   SCAPLEL Photomask Fabrication Flow  3-8
3.5   MaskRigger Software in a Mask Fabrication Process   3-21
3.6   Schematic of a Laser Pattern Generator  3-25
3.7 Mulith Reference Distribution Aerial Image Formation 3-29
3.8   Die-to-Die and Die-to-Database Inspection    3-31
3.8   Schematic of a Focused Ion Beam System  3-39
3.9   Illustration of Clear and Opaque Mask Repair 3-41
4.1   Throughput of Alta 3000 Laser Versus Alta 3000 HT Systems 4-7
4.2 Subwavelength Gap 4-19
4.3 Phase-Shifting Masks 4-22
4.4 iN Phase Mask Design 4-25
4.5 Illustration of OPC 4-29
4.6 Main NGL Mask Formats 4-32
4.7 Mask Costs Versus Feature Size 4-42
5.1 Production Costs for Maskmaking 5-11
5.2 Capital Expenditures and Revenues 5-12
5.3 Photomask Functionality 5-13
5.4   North American Merchant Mask Making Market Shares 5-22
5.5   European Merchant Mask Making Market Shares 5-27
5.6   Worldwide Merchant Mask Making Market Shares 5-28
5.7   Pacific Rim Merchant Mask Making Market Shares 5-29
5.8 Japan Merchant Mask Making Market Shares 5-30
5.9 Worldwide Mask Making Equipment Market Shares 5-41
    
  LIST OF TABLES 
    
4.1   FIB and Laser Repair Comparison    4-14
4.2 Advanced Optical Lithographic Scenarios 4-21
4.3 NGL Mask Formats 4-33
4.4 Cost of Reticle/X-Ray Mask 4-41
4.5 Phase Shift Mask and X-Ray Mask Manufacturing 4-44
4.6  Photronics Photomask Facilities 4-49
4.7 DuPont Photomask Facilities 4-57
5.1   Overall Roadmap of Technology Characteristics 5-6
5.2   Roadmap of Mask Inspection 5-7
5.3 DRAM Lithographic Requirements  5-8
5.4   Specifications for 5:1 and 1:1 Reticles for DRAMs 5-10
5.5  North American Mask Making Market  5-20
5.6  European Mask Making Market 5-23
5.7 Worldwide Mask Making Market by Feature Size 5-25
5.8  Captive Mask Shops  5-32
5.9   Mask Consumption by U.S. Semiconductor Companies  5-33
5.10 Mask Consumption by European Semiconductor Companies  5-34
5.11 Mask Consumption by Asian Semiconductor Companies  5-35
5.12 Worldwide Mask Making Equipment Market Forecast 5-39
5.13 Worldwide Mask Making Equipment Market Shares 5-40
5.14  Mask Inspection Economics     5-45

如果这份报告还不能满足您的需求,或者您对这份报告还有什么意见或者建议,请您填写以下反馈信息。
百度主题推广
关于我们 | 报告购买帮助 | 定制服务 | 关于佐思软件 | 会员服务申请 | 常见问题 | 版权申明 | 友情链接 | 联系我们
2005-2007 OKOKOK.com.cn All rights reserved. 佐思信息 版权所有 京ICP证041200号
北京:010-51266615 010-82863480/1/2/5 传真:010-82863486 上海:021-64871266 021-64872612 传真:021-64872324
Email: 地址:北京市海淀区五道口华清商务会馆906D(100083)


PDF阅读软件